Book
  • 発行/2014年8月29日
  • 定価/90,000円(税別)
  • 体裁/A4判・561頁
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★多層光学薄膜、誘電体膜、光触媒膜、透明導電膜、超親水・撥水、耐指紋コーティング
塗布液の調整、膜厚の制御、コーティング条件の最適化から評価・分析技術のノウハウまでを網羅!

書籍の詳細項目
◆本書のポイント
  • ・精密塗布法による薄膜化技術
  • ・塗工液最適化へのナノ粒子の表面技術と濡れ性、乾燥の評価
  • ・ゾル―ゲル法による薄膜化技術とコート膜の評価
  • ・インクジェット法による薄膜化技術
  • ・電解メッキ/無電解メッキによる薄膜形成技術
  • ・ウェット薄膜の分析・評価技術
  • ・ウェット薄膜の微細パターン形成技術と光学薄膜、耐指紋・超親水・撥水膜の成膜技術
◆執筆者
  • 真部 高明   (独)産業技術総合研究所
  • 山口巌     (独)産業技術総合研究所
  • 近藤尚城    中外炉工業(株)
  • 金子四郎     金子技術事務所
  • 金森義明     東北大学(株)
  • 井本克之     湖北工業(株)
  • 福田武司     埼玉大学
  • 土屋哲男    (独)産業技術総合研究所
  • 中島智彦    (独)産業技術総合研究所
  • 内山元広    NTN(株)
  • 大坪泰文    千葉大学
  • 佐藤正秀    宇都宮大学
  • 井上均     日本資材(株)
  • 西田広泰    日揮触媒化成(株)
  • 福山紅陽    FIA
  • 板谷義紀    岐阜大学
  • 鏡裕行      藤田保健衛生大学 
  • 下河有司    東京大学
  • 酒井啓司    東京大学
  • 矢澤哲夫    兵庫県立大学
  • 福井俊巳    (株)KRI
  • 内山弘章    関西大学
  • 幸塚広光    関西大学
  • 河村剛      豊橋技術科学大学
  • 松田厚範    豊橋技術科学大学
  • 伴隆幸      岐阜大学
  • 幸塚広光    関西大学
  • 鈴木久男    静岡大学
  • 大野智也    北見工業大学
  • 原口和敏    日本大学
  • 石沢均       (株)ニコン
  • 野上正行    豊田理化学研究所
  • 太田徳也    IJ-DynamiX
  • 森田正道    ダイキン工業(株)
  • 和泉亮      九州工業大学
  • 浅野種正    九州大学
  • 石田雄二    (株)安川電機
  • 山口修一    (株)マイクロジェット 
  • 西城信吾    奥野製薬工業(株)
  • 松原浩      長岡技科大
  • 松木一弘    広島大学
  • 金子豊      京都大学
  • 小岩一郎    関東学院大学
  • 近藤和夫    大阪府立大学
  • 玉井聡行    (地独)大阪市立工業研究所
  • 松川公洋    (地独)大阪市立工業研究所
  • 小幡勤       富山県工業技術センター
  • 齋藤美紀子   早稲田大学
  • 吉原一紘    オミクロンナノテクノロジージャパン(株)
  • 薮上信      東北学院大学
  • 萩行正憲    大阪大学
  • 杉村明彦    大阪産業大学
  • 田中敬二    九州大学
  • 松野寿生    九州大学
  • 馬場茂      成蹊大学 
  • 小松守     サーモフィッシャーサイエンティフィック(株) 
  • 今井秀秋    神奈川大学
  • 吉武正義    吉武技術士事務所
  • 立間徹      東京大学
  • 村松淳司    東北大学
  • 倉本憲幸    山形大学
  • 鈴木完      (株)特殊阿部製版所
  • 鶴田高広    山梨大学
  • 奥崎秀典     山梨大学
  • Kim Yeji    (独)産業技術総合研究所
  • 上野啓司    埼玉大学
  • 菰田悦之    神戸大学
  • 金藤敬一    九州工業大学
  • 新井武彦    英弘精機(株)
  • 加藤孝正    山梨大学 
  • 落合鎮康    愛知工業大学
  • 伊﨑昌伸    豊橋技術科学大学
  • 奥健夫      滋賀県立大学
  • 藤本和也    滋賀県立大学
  • 木戸脇大希   滋賀県立大学
  • 秋山毅     滋賀県立大学
  • 尾上順     名古屋大学
  • 丸本一弘    筑波大学
  • 大森裕      大阪大学
  • 谷垣宣孝    (独)産業技術総合研究所
  • 久保雅敬    三重大学
  • 松井弘之    東京大学
  • 三上明義    金沢工業大学
  • 柴田修一    東京工業大学
  • 今野幹男    東北大学
  • 鈴木和嘉    (株)タッチパネル研究所
  • 藤原忍      慶應義塾大学
  • 羽山秀和    (株)KRI
  • 福原智博    オムロン(株)
  • 鈴木道隆    兵庫県立大学
  • 西野孝      神戸大学
  • 川瀬徳三    京都工芸繊維大学
  • 中野万敬    名古屋市工業研究所
  • 山中基資    名古屋市工業研究所
  • 南保幸男    南保技術研究所
  • 入江寛      山梨大学
  • 荻原仁志    東京工業大学
  • 山口昌樹    岩手大学
◆目次と内容

【第1章】 各種ウェットプロセス法による薄膜化技術

第1節 精密塗布法による薄膜化技術

  • [1] 化学溶液法によるコーティングと大面積化、厚膜化技術
  • [2] 超高精度塗工技術と薄膜化の動向
  • [3] グラビアコーターによる機能性フィルムの精密塗布と薄膜化技術
  • [4] スピンコートによるナノ粒子の自己配列技術
  • [5] スピンコーティング法による光学薄膜の成膜と評価法
  • [6] 静電塗布法を用いたナノ構造体の形成技術
  • [7] 塗布光照射法による機能性酸化物薄膜の低温成長
  • [8] 微細塗布技術と塗布品位の改善
  • [9] 塗工液のレオロジーと塗布性について
  • [10] ムラ・コーヒーステイン防止に向けた液中微粒子の挙動解析と制御技術/li>
  • [11] カーボンナノチューブの液中分散における留意点
  • [12] 最適な塗工液を得るためのナノ粒子の表面技術
  • [13] 塗膜におけるぬれ性評価技術~接触角測定と表面張力測定
  • [14] セラミックス薄膜の乾燥技術
  • [15] 塗布膜乾燥プロセスにおける膜厚制御のポイント
  • [16] 電場ピックアップ法の開発と塗膜の乾燥評価

第2節 ゾル―ゲル法による薄膜化技術

  • [1] ゾルーゲル法による製膜のポイントおよび評価
  • [2] ゾル-ゲル法を用いた機能性薄膜の作成技術
  • [3] 超低速ゾルーゲルディップコーティングの現状と課題
  • [4] 無機-有機ハイブリッド膜を用いたマイクロナノパターニングプロセス
  • [5] 水系ゾルを用いたゾルゲル法によるセラミックス薄膜の作製
  • [6] ゾル-ゲル法によるプラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術
  • [7] ゾル-ゲル法の基礎と強誘電体薄膜への応用
  • [8] 有機-無機ハイブリッド材料の調製と透明性、耐熱性の制御技術
  • [9] ゾル-ゲル法による光学薄膜の作製とその応用
  • [10] ゾル-ゲル法によるフォトニックガラスの作製と応用展開

第3節 インクジェット法による薄膜化技術

  • [1] プリンテッドエレクトロニクスへのインクジェット印刷技術の展開と薄膜化技術
  • [2] インクジェット法によるフッ素系パターン化基板を用いた超微細薄膜作製技術
  • [3] 水素ラジカルを用いた還元法によるインクジェット銅配線の実現
  • [4] 静電式インクジェットによるサブミクロン描画法
  • [5] インクジェット液滴の着滴後の濡れや乾燥過程の解析

第4節 電解メッキ/無電解メッキによる薄膜形成技術

  • [1] めっき液組成からのめっき膜厚均一化
  • [2] めっきプロセスによる金属-ナノ粒子複合薄膜の形成
  • [3] 粉体へのめっき技術とその均一化
  • [4] 電気銅めっきにおける空孔発生とその制御
  • [5] チップ部品の電極部への選択的無電解めっき析出の検討
  • [6] エレクトロニクス分野における微小めっき技術
  • [7] ハイブリッド層を利用したポリマーフィルムの無電解めっき
  • [8] 医療用デバイスとめっきによる高機能化
  • [9] エレクトロニクス分野におけるめっき薄膜の評価

【第2章】 ウェット薄膜の分析・評価技術

第1節 走査電子顕微鏡(SEM)による薄膜の表面形状観察

第2節 薄膜の透磁率の測定

第3節 テラヘルツ波を用いた薄膜評価

第4節 NMRによる液晶薄膜の評価法

第5節 光学多重反射測定に基づく高分子薄膜の膨潤挙動評価

第6節 QCMによるinsitu膜厚測定と注意点

第7節 フーリエ変換赤外分光法(FT-IR)による薄膜の測定・分析法

第8節 塗膜性能の耐候性評価方法

【第3章】 ウェット薄膜のパターン形成技術とデバイス応用

第1節 電子回路形成・電子デバイス

  • [1] 導電性ペーストにおける粒子・樹脂・添加剤の調整
  • [2] 多色フォトクロミズムに向けた銀ナノ粒子材料
  • [3] ITOナノインク用単分散粒子の液相合成と低抵抗化
  • [4] 可溶性・高導電性ポリアニリンの合成と応用
  • [5] パッド印刷工法による導電パターン形成技術
  • [6] レーザープリンタを用いた導電性高分子のパターニングとデバイス化
  • [7] ウェットコーティング法によるフレキシブルなカーボンナノチューブ透明導電フィルム
  • [8] 化学的薄片剥離法によるグラフェン可溶化と薄膜塗布形成
  • [9] スラリー分散プロセスと固体高分子形燃料電池触媒層
  • [10] 高分子ソフトアクチュエータ―の作製技術
  • [11] 薄膜化へ向けたスクリーン印刷におけるペーストのレオロジー

第2節 太陽電池

  • [1] 静電スプレー堆積法による太陽電池膜の作製
  • [2] スプレーコート法を用いた有機薄膜太陽電池の作製と性能評価
  • [3] 水溶液電気化学製膜法による酸化物半導体膜の形成と太陽電池への展開
  • [4] 電解析出法による銅酸化物薄膜の作製と太陽電池への応用
  • [5] In situ非破壊インピーダンス分光による有機薄膜太陽電池動作中の基礎物性評価
  • [6] 有機薄膜太陽電池の劣化機構の解析

第3節 有機薄膜トランジスタ、有機EL

  • [1] ウエットプロセスによる薄膜作製法と有機デバイスの作製
  • [2] 溶媒、真空を用いない有機高分子薄膜作製技術(摩擦転写法)
  • [3] 有機ELへの応用を目指したプリンティング用ハイブリッド材料の開発
  • [4] 光学的手法による有機薄膜デバイスの動作解析
  • [5] 有機ELにおける発光特性の光学解析と制御

第4節 光学材料

  • [1] 有機・無機ハイブリッド材料による薄膜形成と光学特性の制御
  • [2] 高屈折率・高誘電率透明ポリマーナノコンポジット薄膜の作製
  • [3] タッチパネル透明電極の低抵抗化と屈曲性への要求性能

第5節 反射防止膜

  • [1] 蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製
  • [2] 塗布法による反射防止膜の作製
  • [3] 光通信用ポリマーマイクロレンズにおける反射防止膜の密着性向上技術

第6節 撥水

  • [1] ナノ粒子を用いた透明超撥水剤の開発
  • [2] 含フッ素官能基による高分子の撥水化技術
  • [3] 含フッ素シランカップリング剤による超撥水・撥油加工
  • [4] 含フッ素ゲル化剤による超撥水表面の作製技術
  • [5] シリカ系超親水・超撥水化剤によるコーティング加工とその機能性について
  • [6] 指紋を目立たせない防汚性、耐指紋性の評価技術
  • [7] 酸化チタン表面の超親水-撥水可逆制御
  • [8] ナノ粒子混濁溶液のスプレーコーティングによる透明超撥水表面の創成
  • [9] フィルム・プラスチックへの微細周期構造の形成と濡れ性の制御

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